Вакуумные технологии

Продукция
Вакуумные камеры нашего производства
Вакуумные камеры широко используются как самостоятельно, так и в составе самых разнообразных по величине и сложности систем.
Установка для нанесения упрочняющих покрытий
Установка для нанесения покрытий, предназначена для нанесения покрытий на инструмент, детали машин и пр.
Установка магнетронного напыления металлов и диэлектриков
Установка предназначена для многослойного напыления металлов и диэлектриков на твёрдые образцы
Настольная вакуумная установка магнетронного напыления
Для отработки технологии магнетронного напыления металлических и диэлектрических покрытий на твердые и дисперсные образцы предлагаем Вам настольную вакуумную установку VSE-PVD-DESK-PRO
Установка для работы с электронными высокоэнергетическими пучками
Установка предназначена для работы с электронными высокоэнергетическими пучками. Для генерации сфокусированного электронного пучка здесь  используется электронно-лучевая пушка.
Термовакуумная камера для проведения измерений индикатрис
Установка «VSE Thermo Optic» предназначена для проведения измерений индикатрис направленных оптических характеристик материалов и покрытий при высоких температурах.
Установка вакуумная для напыления покрытий
Установка вакуумная предназначена для нанесения покрытий на различные подложки методом плазмохимического осаждения из газовой фазы.
ВАКУУМНЫЕ ПЛАЗМЕННЫЕ УСТАНОВКИ С ПОЛЫМ КАТОДОМ
Для промышленной обработки порошков, наплавления слитков высокочистых металлов. Конструктивное исполнение оборудования существенно отличается от оборудования напыления с пред- активацией, и ближе к оборудованию для вакуумного дугового переплава.
Установка для термовакуумных испытаний образцов
Установка предназначена для проведения термовакуумных испытаний образцов.
Установка по облучению ВУФ образцов в вакууме
Настольная установка предназначена для изучения влияния вакуумного ультрафиолетового излучения на различные материалы, а также для имитации космического излучения.
Универсальная вакуумная ячейка
Установка предназначена для исследования коэффициента полезного действия термоэлементов и тепло-электрофизических параметров материалов.
Лабораторная вакуумная печь
Установка предназначена для проведения термической обработки металлов и керамик в вакууме.
Установка для измерения коэффициента вторичной электронной эмиссии
Установка предназначена для измерения коэффициента вторичной электронной эмиссии и работы выхода электронов.
MOCVD Установка по нанесению покрытий из благородных металлов на объемные изделия
Установка предназначена для разработки методик нанесения биологически совместимых наноструктурированных металлических (Ir, Pt) и композиционных (Ir-IrO2, PtxIry) покрытий.
Вакуумная сушильная установка
Вакуумная сушильная установка предназначена для контролируемого удаления влаги из термически нестабильных, в том числе пищевых, продуктов.
Электронные пушки, работающие в режиме постоянного тока
Установки предназначены для работы в технологических и исследовательских процессах.
Источник протонов
Ионные пучки широко применяются в космических технологиях, модификации поверхностей, напылении пленок, проведении исследований физических и химических свойств материалов, структурированных в наноразмерных масштабах, и многих других.
Автоматизированная электронно-лучевая установка
Установка предназначена для работы с электронными высокоэнергетическими пучками.
Модуль для исследования физических процессов пробоя вакуумного промежутка
Модуль обеспечивает получение, сохранение и оперативный контроль вакуума в вакуумных камерах на уровне не хуже 10-6 Торр, многократную установку и замену объектов исследований, а также элементов диагностических средств.
Установка плазмохимического осаждения слоев из газовой фазы VSE_PECVD_100 (CVD)
Установка предназначена, в частности, для разработки методик нанесения пленок карбонитрида кремния SiCxNy на полупроводниковые пластины Si(100) и GaAs(100) методом плазмохимического осаждения из газовой фазы.