Установка по облучению ВУФ образцов в вакууме

Настольная установка предназначена для изучения влияния вакуумного ультрафиолетового излучения на различные материалы, а также для имитации космического излучения. В качестве источников ионизирующего излучения могут использоваться Ar2* эксимерная лампа (126 нм), Kr2* эксимерная лампа (146 нм), Xe2* эксимерная лампа (172 нм), а также дейтериевая лампа (113-165 нм – многолинейчатый спектр, 165-380 нм – сплошной спектр излучения).

Установка состоит из следующих частей: вакуумная камера; площадка для размещения образцов (термостатированный столик); источник ВУФ-излучения с системой питания; вакуумный насос; вакуумный датчик; комплект вакуумной арматуры; система нагрева/охлаждения.
Вакуумная камера изготовлена из нержавеющей стали с внутренним диаметром 300 и высотой 170 мм. Фланцы выполнены по современным международным стандартам. Сверху вакуумной камеры расположен фланец стандарта ISO 320, на котором размещаются источники ВУФ-излучения. Также на верхнем фланце со стороны вакуума предусмотрены крепления для малогабаритных источников других видов ионизирующих излучений (например, позволяющие установить в дальнейшем источники β-излучения). Камера оснащена смотровым окном из боросиликатного стекла, размещенным на стандартном фланце KF40, а также вакуумным термопарным вводом для подключения термопар К-типа, для прецизионного измерения температуры. Верхний фланец камеры установлен на прочном кронштейне, позволяющем подъем фланца и отвод его в сторону для удобства смены образцов. Конструкция кронштейна препятствует опрокидыванию камеры. Допускается размещение камеры на столе.
Площадка для размещения образцов находится в камере и обеспечивает размещение 12 образцов диаметром 30 мм с опциональной возможностью эффективного равномерного охлаждения (до температуры жидкого азота) или нагрева (до 150 0С). В зависимости от необходимой температуры система может содержать циркуляционный криостат с внешним контуром, объем с заливкой жидкого азота или омический нагреватель. Площадка размещается в вакуумной камере с тепловой развязкой и присоединена вакуумными фитингами, которые предусматривают возможность ее быстрого и легкого извлечения. Площадка имеет термопару для осуществления контроля температуры.
Источник ВУФ-излучения состоит из специально сконструированной матрицы, включающей 4 излучательных блока с необходимой длиной волны по 3 лампы в каждом, с источниками питания. Лампы закреплены в сборке из двух металлических пластин, выполняющих функцию электродов (электродная сборка). Каждая из ламп вакуумно уплотняется на верхнем фланце вакуумной камеры, образуя матрицу. Выходные окна ламп находятся в вакууме, без промежуточных окон. При этом пользователь может регулировать расстояние от выходного окна лампы до образца.
При заказе возможно выбрать режим облучения/спектр излучения, а именно:
  • Облучение образцов одной длиной волны всеми 12-ю лампами;
  • Одновременное или поочередное облучение всех образцов секторами с разной длиной волны (сборка из 3 ламп имеет одну длину волны).
  • Одновременное или поочередное облучение 4-х групп образцов своей длиной волны (группы образцов разделены экранами). Экраны защищают образцы от излучения с соседних секторов.
Источник ВУФ-излучения оснащен устройством принудительной канальной вентиляции VKK-125 для удаления образующегося озона и охлаждения ламп. Система питания позволяет включать каждый блок независимо от других.
 
  

ОСТАВИТЬ ЗАЯВКУ

Поля, отмеченные * — обязательны для заполнения.