Технические характеристики

Наименование параметра Норма параметра
Габаритный размер Д*Ш*В (без стойки управления) 1550*1150*1850 мм
Габаритный размер Д*Ш*В (стойка управления) 600*600*1800 мм
Предельный вакуум 10-7 мбар
Максимальная рабочая температура внешней поверхности вакуумной камеры не выше +40°С
Охлаждение воздушное+водяное
Напряжение питания 380 В, 50 Гц
Установленная мощность Не более 9кВт
Масса установки Не более 400 кг

Количество магнетронов

(могут работать одновременно)

3 (2 DC, 1ВЧ)

2 (1DC, 1 ВЧ)

Питание магнетронов DC или ВЧ (13.56 МГц)
Количество одновременно загружаемых образцов 15
Тип распыляемого материала металл, диэлектрик
Время автономной работы 2 часа
Точность позиционирования подложки не хуже 1 мм
Скорость осаждения напыляемого материала 7,5 Å/сек

 

 

Установка магнетронного напыления металлов и диэлектриков

Мелкосерийное производство VSE-PVD-100 - Вакуумных установок магнетронного напыления металлических и диэлектрических покрытий на твердые и дисперсные образцы развивается в нашей компании с 2010г.

Установка предназначена для многослойного напыления металлов и диэлектриков на твёрдые образцы.

Это оптимальная конфигурация вакуумной системы для решения множества исследовательских и производственных задач.
Данная установка успешно используется для серийного выпуска высокотехнологичной продукции.
D-образная  камера с большой дверью  даёт возможность размещения не менее 10 подложек диаметром 50 мм или 6 подложек диаметром 100 мм. Рабочий цикл при одностороннем напылении составляет 2-3 часа.
Специально разработанный подложкодержатель легко снимается вручную и может разместиться на столе для удобства загрузки.
Оснащён шаговым двигателем и возможностью регулировки по высоте. Точность позиционирования (менее 1 мм) обеспечивается оптическими датчиками положения. Предусмотрен встроенный нагрев подложек для очистки поверхности, улучшения адгезии, выдерживания стехиометрии при заданной температуре.
 
Принцип действия 
Конструкция установки предусматривает два магнетрона постоянного тока для металлов (с возможностью работы в импульсном режиме), один ВЧ магнетрон для диэлектрика. Магнетроны располагаются в нижней части вакуумной камеры под подложкодержателем, могут регулироваться по высоте, комплектуются пневматическими заслонками. Подача газа осуществляется отдельно на каждом магнетроне через газовое кольцо. Для защиты от перепыления с соседнего магнетрона предусмотрен съёмный экран.
Полная автоматизация с сохранением и воспроизведением последовательности действий технологических процессов.
 

Дополнительные опции: датчик толщины покрытий (кварцевый резонатор), квадрупольный масс-спектрометр, прецизионный цифровой регулятор расхода газа, мощный источник бесперебойного питания, позволяющий завершить техпроцесс в случае отключения электропитания.

Отличительные возможности установки:

  • Полностью безмасляная откачка обеспечивает высокую чистоту осаждаемых покрытий;
  • Диаметр нераспыляемой центральной части магнетрона минимизирован;
  • Простота использования сочетается с высоким качеством получаемых покрытий;
  • Высокая повторяемость результатов позволяет получать серии образцов с заданными свойствами;
  • Высокая адгезия покрытия к подложке;
  • Подложкодержатель легко снимается для удобства загрузки образцов;
  • Встроенное устройство нагрева подложек;
  • Два магнетрона постоянного тока для осаждения  металлов (с возможностью работы в импульсном режиме), один ВЧ магнетрон - для диэлектриков;
  • Полная автоматизация технологического процесса;
  • Подача газа осуществляется отдельно на каждом магнетроне через газовое кольцо.

Установка предназначена для:

  • Многослойного напыления металлов и диэлектриков на твёрдые и дисперсные образцы за один цикл;
  • Отработки технологий в области материаловедения;
  • Серийного выпуска высокотехнологичной продукции.

Оптимальна для решения исследовательских и производственных задач.

Основные характеристики:

  • Скорость осаждения зависит от типа напыляемого материала и может достигать 7,5 Å/сек;
  • Однородность наносимых покрытий ±10 %;
  • Точность позиционирования подложки до 1 мм;
  • Одновременная загрузка 15-ти подложек d=33 мм или 10-ти подложек d=50 мм или 6-ти подложек d=100 мм;
  • Варьируемая толщина покрытий от десятков нанометров до нескольких микрон;
  • Регулировка высоты расположения мишени относительно магнетрона;
  • Масса 400 кг;
  • Размеры установки без стойки управления (ДхШхВ) – 1550х1150х1850 мм;
  • Размер стойки управления (ДхШхВ) - 600х600х1800 мм.

Опции:

  • Прецизионный цифровой регулятор расхода газа;
  • Устройство измерения толщины покрытия;
  • Квадрупольный масс-спектрометр;
  • Мощный источник бесперебойного питания.

При изготовлении установок мы используем комплектующие от ведущих мировых производителей вакуумного оборудования.

 
  

ОСТАВИТЬ ЗАЯВКУ

Поля, отмеченные * — обязательны для заполнения.