Технические характеристики

Чичло испарителей, шт:

  • лодочка из тугоплавкого материала
  • низкотемпературный испаритель (LTE)

 

  • 2
  • 2

Объём испаряемого вещества, см3:

  • для лодочки из тугоплавкого материала
  • для низкотемпературного испарителя

  • 1,5
  • 4

Рабочая температура испарителей, °С:

  • лодочки из тугоплавкого материала
  • низкотемператуного испарителя

 

  • 50-1500
  • 50-500
Индикация ЖК дисплеи, монитор
Максимальная рабочая температура наружной поверхности вакуумной камеры не более 40°С
Охлаждение воздушное, водяное
Входное напряжение 380 В; 50 Гц
Потребляемая мощность, кВт не более 8 
Общий габаритный размер, мм 800*2000*1300 
Масса установки, кг не более 450 кг

 

 

Установка EPOS-PVD-LTE-BOX для получения металлических и органических покрытий

Вакуумная напылительная установка  EPOS-PVD-LTE-BOX для лаборатории перспективной солнечной энергетики МИСиС, изготовлена для выполнения научного исследования «Широкоформатные полупрозрачные солнечные панели c использованием стабильных перовскитных архитектур», проводимого под руководством Ведущего ученого Альдо Ди Карло.

Установка предназначена для получения  металлических и органических покрытий методом термического испарения.

Чтобы работать с веществами, чувствительными к влаге и кислороду, спроектирована специальная конструкция установки, которая  даёт возможность комбинировать её с перчаточным боксом.

Вакуумная камера оснащена двумя дверями. Первая - с раздвижным механизмом для подключения к герметичному перчаточному боксу. Вторая предназначена для доступа внутрь камеры, обеспечения сервисного обслуживания.

Система снабжена высокотемпературным испарителем – танталовой лодочкой (2 ШТ). Собственная разработка компании  для OLED технологий – низкотемпературный испаритель с контролем температуры с точностью до 0,1 0С (2 ШТ) . Система крепления и позиционирования направленности распыления обеспечивает выставление положения источника по трем координатам с точностью до 0,5 мм.

Автоматизированная  система откачки  позволяет  выводить  установку с атмосферы  на высокий вакуум для последующего нанесения покрытий. Полное управление техпроцессом осуществляется посредством авторского пользовательского интерфейса с возможностью записи и последующей загрузки сохранённых карт техпроцесса.

ОСТАВИТЬ ЗАЯВКУ

Поля, отмеченные * — обязательны для заполнения.