Электронно-лучевой источник

Электронно-лучевой источник «VSE_BEAM_6» предназначен для проведения технологических процессов электронно-лучевого нанесения диэлектрических, полупроводниковых и металлических однослойных и многослойных покрытий на различные подложки.

Использование электронного луча позволяет работать с прекурсорами, имеющими высокую температуру плавления.
Источник состоит из системы генерации электронного луча с энергией до 8 кэВ и током эмиссии до 1 А, а также оснастки карусельного типа на шесть ячеек для размещения прекурсоров, позволяющей проводить работы с несколькими материалами в одном технологическом цикле. Наличие крышки-заслонки, закрывающей неиспользуемые ячейки с прекурсорами во время работы электронно-лучевого источника, исключает эффекты перераспыления, ведущего к перемешиванию и загрязнению материалов.
Особенностью данного источника является поворот электронного луча на 2700 с помощью электромагнитной системы, что позволяет скрыть нить накала и продлить ее срок службы.
Кроме того, в источнике реализована электромагнитная система сканирования электронного луча по всей поверхности ячейки, что дает возможность использовать всю навеску прекурсора равномерно.
При изготовлении источника применяются современные материалы, снижающие эффекты дегазации, повышающие температурную стойкость и равномерность распределения температур.

ОСТАВИТЬ ЗАЯВКУ

Поля, отмеченные * — обязательны для заполнения.